一种两性离子修饰的多糖类聚合物及其制备方法与应用
- 专利权人:
- 深圳华源再生医学有限公司
- 发明人:
- 吴海伟,庄泽鹏,雷德勇,丁蒙,张磊,郑立新,周金生,李珺
- 申请号：
- CN202210153397.2
- 公开号：
- CN114702606A
- 申请日:
- 2022.02.18
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2022
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明公开了一种两性离子修饰的多糖类聚合物及其制备方法与应用。所述两性离子修饰的多糖类聚合物上含有含氮杂环阳离子基团，所述两性离子修饰的多糖类聚合物是由含氮杂环两性离子通过酰胺化反应接枝于多糖类聚合物上制备得到。本发明的两性离子修饰的多糖类聚合物具有良好的生物相容性、低异物反应性且可用作植入材料长期稳定存在于体内，应用前景好。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
