制备熔体挤出的膜的方法和熔体挤出的膜
- 专利权人:
- 陶氏环球技术有限责任公司
- 发明人:
- M.哈尔,M.里德,U.施雷萨
- 申请号：
- CN201180016232.0
- 公开号：
- CN103153580A
- 申请日:
- 2011.02.25
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2013
- 代理人:
- 摘要：
- 熔体挤出的膜通过包括以下步骤的方法制备：共混a)水溶性聚合物、b)活性成分、和c)任选的添加剂，和使共混物经受熔体挤出以制备挤出的熔体，以1.5至20的预拉伸比拉伸所述挤出的熔体形成厚度为至少0.04mm的膜。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
