ヘアスタイリング剤組成物

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专利权人:

株式会社;菊星

发明人:

竹鼻 実樹

申请号：

JP2012555689

公开号：

JPWO2012105096A1

申请日:

2011.10.31

申请国别(地区):

JP

年份:

2014

代理人:

摘要：

Is to provide a technique that can also make it possible to set the hair hard to collapse and re-set the hair more easily. Hair styling composition comprising a hydrophobic silica, and a dispersion liquid for dispersing the hydrophobic silica.崩れにくい髪型をセットすることを可能にし、さらに髪型を簡便にセットし直すことも可能にする技術を提供する。疎水性シリカと、疎水性シリカを分散させる分散液とを含むヘアスタイリング剤組成物。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/