A system and method for treating onychomycosis and skin conditions such as urushiol-induced allergic contact dermatitis comprises coating the affected nail or skin with a solution comprising an at least a primary diamine with modified diphenylmethane diisocyanates and a carrier solvent/reactant. A secondary diamine may be mixed with the primary diamine in an oligomeric, stoichiometrically balanced blend. Upon topical application, the carrier solvent/reactant evaporates, allowing polymerization of the remaining solution constituents to form a non-toxic, hydrophobic, elastomeric polyureathane linked copolymer coating that provides a barrier against moisture impregnation, inhibiting the growth of dermatophytes and urushiol-infected skin cells.Linvention concerne un système et une méthode pour traiter une onychomycose et des troubles dermiques, notamment une dermatite de contact allergique induite par de lurushiol. Cette méthode consiste à appliquer, sur longle ou sur la peau lésée, une solution comprenant au moins une diamine primaire présentant des diisocyanates de diphénylméthane modifiés et un solvant/réactif excipient. Une diamine secondaire peut être mélangée à la diamine primaire dans un mélange oligomère stoechiométriquement équilibré. Lors dune application topique, le solvant/réactif excipient sévapore, ce qui permet une polymérisation des constituants de solution restants pour former un revêtement copolymère élastomère, hydrophobe et non toxique, relié à du polyuréthanne, qui constitue une barrière contre une imprégnation dhumidité. Cette réaction permet dinhiber la croissance de dermatophytes et de cellules dermiques infectées par de lurushiol.
