一种用于总义齿和局部义齿颌记录的基托型蜡
- 专利权人:
- 邢旭东
- 发明人:
- 邢旭东
- 申请号：
- CN201120374636.4
- 公开号：
- CN202386814U
- 申请日:
- 2011.09.28
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2012
- 代理人:
- 摘要：
- 一种用于总义齿和局部义齿颌记录的基托型蜡，由上颌基托型蜡、下颌基托型蜡、上颌蜡堤和下颌蜡堤组成；上颌基托型蜡和下颌基托型蜡均是弓槽形结构，上颌蜡堤和下颌蜡堤均是弓形结构。使用该型蜡可使临床采集颌记录操作简单，取得的颌记录信息准确全面，从而使后期制作的修复义齿更精确，配戴舒适而美观。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
