经皮吸收制剂
- 专利权人:
- 久光制药株式会社
- 发明人:
- 天野智史,筱田知宏,加濑奈津美,森启太
- 申请号：
- CN201080007994.X
- 公开号：
- CN102316901A
- 申请日:
- 2010.02.09
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2012
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及一种经皮吸收制剂，该制剂具备：非液态的药物贮留层(2)，其含有药物和作为基剂的高分子，并具有第1和第2主表面；药物渗透层(4)，其设置在药物贮留层(2)的第1主表面侧，药物的渗透性比药物贮留层(2)的低；和第1支持体(3)，其以覆盖药物贮留层侧面的方式形成，硬挺度为10～80mm，由此该经皮吸收制剂可以减小对皮肤的刺激。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
