一种二氢吡喃并噻唑化合物的晶型及其制备方法
- 专利权人:
- 中国医药集团总公司四川抗菌素工业研究所
- 发明人:
- 李俊龙,戴青松,杨开川,杨洁,张翔,沈旭东,刘悦,李青竹,冷海军,曾荣,刘宇,张鹰
- 申请号：
- CN201711035651.4
- 公开号：
- CN107739386B
- 申请日:
- 2017.30.10
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明提供了一种式(A)所示化合物的晶型Ⅰ,其特征在于:该晶型为三斜晶系,空间群为P1,晶胞参数为α=88.475(2)°,β=77.644(2)°,γ=72.485(2)°,Z=1,本发明还提供了该晶型Ⅰ的制备方法。本发明式(A)化合物的晶型具有一定的抗肿瘤活性,并且引湿性增加不明显,稳定性良好,为后期产品运输、贮藏或者制剂过程提供了极大地便利。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
