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スタイリング化粧料
专利权人:
中野製薬株式会社
发明人:
小西 正博,藤井 信乃
申请号:
JP2010235611
公开号:
JP5989962B2
申请日:
2010.10.20
申请国别(地区):
JP
年份:
2016
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a styling cosmetic allowing leaving of basic performances of a wax, firm setting of even vellus hair or the side of finer hair, and keeping of a prepared style for a long time.SOLUTION: The styling cosmetic includes: (A) 1.0-50.0 mass% of waxes (B) 0.5-30.0 mass% of an anionic surfactant and/or a nonionic surfactant and (C) 0.05-3.0 mass% of a 2-amino-2-methyl-1-propanol salt of (alkyl acrylate/diacetone acrylamide) copolymer and/or dimethylacrylamide-hydroxyethyl acrylate-methoxyethyl acrylate copolymer. The mass ratio (A):(B) of the (A) waxes to the (B) anionic surfactant and/or nonionic surfactant is (1:0.1) to (1:3).
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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