一种增透与抗原子氧剥蚀的聚合物复合薄膜及其制备方法

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专利权人:

中国科学院宁波材料技术与工程研究所

发明人:

宋伟杰,张景,张贤鹏,鲁越晖,艾玲,李啸

申请号：

CN201710270946.3

公开号：

CN107201034A

申请日:

2017.04.24

申请国别(地区):

中国

年份:

2017

代理人:

刘诚午

摘要：

本发明公开了一种增透与抗原子氧剥蚀的聚合物复合薄膜，所述聚合物复合薄膜包括聚合物薄膜层和镶嵌有空心SiO₂纳米粒子的有机无机复合层，通过在所述聚合物薄膜层的至少一面均匀镶嵌空心SiO₂纳米粒子，在聚合物薄膜层表面形成所述镶嵌有空心SiO₂纳米粒子的有机无机复合层。还公开了所述聚合物复合薄膜的制备方法，包括：依次在刚性基材上制备空心SiO₂纳米粒子层和聚合物薄膜层，固化后剥离刚性基材，得到单面镶嵌空心SiO₂纳米粒子的聚合物复合薄膜，在单面镶嵌空心SiO₂纳米粒子的聚合物复合薄膜的基础上可进一步制备双面镶嵌空心SiO₂纳米粒子的聚合物复合薄膜。所得聚合物复合薄膜能同时实现增透与抗原子氧剥蚀的性能，制备操作简单。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/