您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

テクネチウム-及びレニウム-ビス(ヘテロアリール)錯体及びPSMAを阻害するその使用方法
专利权人:
モレキュラ インサイト ファーマシューティカルズ インコーポレイテッド
发明人:
バビッチ,ジョン,ダブリュ.,ツィマーマン,クレイグ,ジョヤル,ジョン,マレスカ,ケヴィン,ピー.,ルー,ジャンリン,ヒリアー,ショーン
申请号:
JP2011539755
公开号:
JP2012511023A
申请日:
2009.12.04
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
Compounds of Formula I, a pharmaceutically acceptable salt, or solvate, rhenium, technetium, or another metal and are complexed, especially metals may be radioactive, or treating a disease imaging tissue to provide the complex. Such complexes is specific for PSMA protein and thus cancer and the proteins of the prostate can be used for imaging or treatment of other tissue expressing. .FIELD 1式Iの化合物、その薬学的に許容可能な塩、又は溶媒和化合物は、レニウム、テクネチウム、又は他の金属と錯化して、特に金属が放射性である場合、組織を撮像する又は疾患を治療する錯体を提供する。このような錯体はPSMAタンパク質に特異的であり、したがって前立腺の癌及び該タンパク質が発現する他の組織の撮像又は処置に使用することができる。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
相关发明人
相关专利

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充