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THIN FILM SUPPORTING HYALURONIC ACID OR DERIVATIVE THEREOF AND THIN FILM COSMETIC
专利权人:
SHISEIDO COMPANY;SHISEIDO COMPANY, LTD.;NANOTHETA CO., LTD.; LTD.;가부시키가이샤 시세이도;나노시타 가부시키가이샤
发明人:
ABE KOJI,아베 고지,YAMAKI SATOSHI,야마키 사토시,TAKEOKA ERIKO,다케오카 에리코,KIMURA TOMOKO,기무라 도모코,KUNISAWA NAOMI,구니사와 나오미,TAKEOKA SHINJI,다케오카 신지,FUJIE TOSHINORI,후지에 도시노리,KABATA KOHKI,가바타 고키,SAITO AKIHIRO,사이토 아키히로
申请号:
KR1020147000795
公开号:
KR1020140068849A
申请日:
2012.06.14
申请国别(地区):
KR
年份:
2014
代理人:
摘要:
The present invention provides a thin film having an excellent manageability, moisture-retaining effect, and unevenness correction effect and a thin film cosmetic. The thin film of the present invention is a laminate of (a) a base film supporting hyaluronic acid or a derivative thereof and (b) a carrier, wherein the thickness of film (a) is 10 to 500 nm.본 발명은 취급성, 보습효과, 요철보정효과가 우수한 박막 및 박막화장료를 제공한다. 본 발명에 관한 박막은 (a)히알루론산 또는 그 유도체를 담지시킨 기재막과, (b)지지체가 적층되어 있고, (a)막의 두께가 10 ~ 500㎚인 것을 특징으로 한다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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