The present invention discloses a system for generating modified plasma. The system is characterized by: (a) a nonthermal plasma (NTP) emitting source for emitting a plasma beam and (b) a plasma coupling mechanism (PCM), wherein said PCM comprises a plasma beam dish having at least one opening for the passage of said plasma beam said plasma beam dish having a first surface and a second opposite surface said first surface of said plasma beam dish is mounted with at least one coupling element selected from a group consisting of: (i) at least one ferroelectric element (ii) at least one ferromagnetic element (iii) at least one piezoelectric element and (iv) at least one piezomagnetic element for coupling with said plasma. Further the aforementioned system additionally comprises at least one reflecting element configured to focus said plasma, thereby providing said modified plasma. The present invention further discloses methods and uses of the aforementioned system.La présente invention porte sur un système de génération de plasma modifié. Le système est caractérisé par : (a) une source démission de plasma non thermique (NTP) pour émission dun faisceau plasma et (b) un mécanisme de couplage plasma (PCM), ledit PCM comprenant une nacelle de faisceau plasma ayant au moins une ouverture pour le passage dudit faisceau plasma ladite nacelle de faisceau plasma ayant une première surface et une seconde surface opposée ladite première surface de ladite nacelle de faisceau plasma est montée avec au moins un élément de couplage sélectionné dans un groupe constitué par : (i) au moins un éléments ferroélectrique (ii) au moins un élément ferromagnétique (iii) au moins un élément piézoélectrique et (iv) au moins un élément piézomagnétique pour couplage audit plasma. En outre, le système mentionné ci-dessus comprend de plus au moins un élément réfléchissant configuré pour focaliser ledit plasma, fournissant ainsi ledit plasma modifié. La présente invention porte en outre sur des
