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SELECTIVELY MODIFIED NANOPOROUS STRUCTURE AND PRODUCTION METHODS THEREOF
专利权人:
SAMSUNG ELECTRONICS CO.; LTD.;SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.;삼성전자주식회사
发明人:
SON, YOU HWAN,손유환,KIM, JAE EUN,김재은,JUNG, BO KYUNG,정보경,KANG, HYO RANG,강효랑,SON, YOU HWANKR,KIM, JAE EUNKR,JUNG, BO KYUNGKR,KANG, HYO RANGKR
申请号:
KR1020120131713
公开号:
KR1020140064409A
申请日:
2012.11.20
申请国别(地区):
KR
年份:
2014
代理人:
摘要:
The present invention provides a method for selectively modifying a structure having nanopores which provides a structure having penetration pores of nanosize; fills the pores with surfactants; exposes a part of the inner surface of the pores by removing the part of the surfactants from both ends of the pores; modifies the exposed inner surface with a first compound; exposes the inner surface of the pores which are not modified with the first compound by removing the surfactants remaining in the pores; and modifies the exposed inner surface with a second compound different from the first compound which is not modified with the first compound.나노 크기의 관통 세공을 포함한 상기 구조체를 제공하고; 상기 세공에 계면 활성제를 충전시키고; 상기 세공 양쪽 끝단으로부터 상기 계면 활성제의 일부를 제거하여 상기 세공의 내측 표면의 일부를 노출시키고; 상기 노출된 내측 표면을 제1 화합물로 개질하고; 상기 세공 내에 남아 있는 상기 계면 활성제를 제거하여 상기 제1 화합물로 개질되지 않은 세공의 내측 표면을 노출시키고; 상기 제1 화합물로 개질되지 않은 상기 노출된 내측 표면을 제1 화합물과는 다른 제2 화합물로 개질하는 단계를 포함하는, 나노 세공을 가지는 구조체의 선택적 개질 방법을 제공한다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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