用于超声治疗的对称和择优导引随机阵列

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专利权人:

皇家飞利浦电子股份有限公司

发明人:

B·拉朱,C·S·霍尔

申请号：

CN200780039261.2

公开号：

CN101528307B

申请日:

2007.10.19

申请国别(地区):

CN

年份:

2013

代理人:

摘要：

一种用于超声生成装置的相控超声阵列。在一个实施例中，所述阵列包括相对于元件尺寸、形状和/或元件位置关于阵列中的点或分界线对称布置的多个超声元件。在另一实施例中，将所述超声阵列中的大多数较大元件布置到所述阵列的第一部分上，并且将大多数较小超声元件布置在所述阵列的第二部分上。所述第一部分比所述第二部分更加接近优选导引方向。另一方法包括选择具有随机尺寸的超声元件，并将所述超声元件对称地布置到所述阵列上。一种额外的方法包括选择具有随机尺寸的超声元件，并对所述超声元件加以布置，其中，将较大的超声元件布置到所述阵列的第一部分上，将较小的超声元件布置到所述阵列的第二部分上。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/