SYSTÈME D'IRRADIATION DE FAISCEAU DE PARTICULES, PROCÉDÉ D'IRRADIATION DE FAISCEAU DE PARTICULES, PROGRAMME DE PLANIFICATION D'IRRADIATION, DISPOSITIF DE PLANIFICATION D'IRRADIATION, GÉNÉRATEUR DE CHAMP ÉLECTROMAGNÉTIQUE ET DISPOSITIF D'IRRADIATION
[Problem] To provide a particle beam therapeutic device, a particle beam therapeutic system, an irradiation planning device, and a particle beam irradiation method. [Solution] In this particle beam therapeutic system 1, while a magnetic field generator 9 generates a magnetic field that effects a particle beam in the vicinity of a target of a subject, a particle beam extracted from an ion source 2 is accelerated by an accelerator 4, transported by a beam transport system 5, and irradiated from an irradiation device 6. When irradiating the particle beam, the irradiation planning device 20 produces an irradiation plan for a particle beam to which the effect from the magnetic field has been added, and the particle beam is irradiated on the basis of the irradiation plan.La présente invention vise à fournir un dispositif thérapeutique à faisceau de particules, un système thérapeutique à faisceau de particules, un dispositif de planification d'irradiation et un procédé d'irradiation de faisceau de particules. À cet effet, dans ce système thérapeutique à faisceau de particules 1, tandis qu'un générateur de champ magnétique 9 génère un champ magnétique qui provoque un faisceau de particules au voisinage d'une cible d'un sujet, un faisceau de particules extrait d'une source d'ions 2 est accéléré par un accélérateur 4, transporté par un système de transport de faisceau 5 et irradié à partir d'un dispositif d'irradiation 6. Lors de l'irradiation du faisceau de particules, le dispositif de planification d'irradiation 20 produit un plan d'irradiation pour un faisceau de particules auquel l'effet du champ magnétique a été ajouté, et le faisceau de particules est irradié sur la base du plan d'irradiation.【課題】粒子線治療装置、粒子線治療システム、照射計画装置、及び粒子線照射方法を提供する。 【解決手段】粒子線治療システム1は、磁場発生装置9が、被検体の標的近傍に粒子線に影響を与える磁場を発生させながら、イオン源2から取り出した粒子線を加速器4で加速しビーム輸送系5で搬送し照射装置6から照射する。粒子線の照射において、照射計画装置20が磁場の影響を加味した粒子線の照射計画を作成し、この照射計画に基づいて粒子線を照射する。