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PHOTORETICULABLE COMPOSITION FOR NAIL MAKE-UP
专利权人:
L'OREAL
发明人:
GUILLAUME KERGOSIEN,CARL RIACHI
申请号:
FR1261677
公开号:
FR2998790A1
申请日:
2012.12.05
申请国别(地区):
FR
年份:
2014
代理人:
摘要:
The present invention relates to a photocurable cosmetic composition, comprising in a physiologically acceptable medium: at least one photocurable compound P1 urethane (meth) acrylate comprising a polyether chain, said compound having a molecular mass greater than or equal to 1000 g / mol, at least one film-forming polymer P2, - at least one photoinitiator, and - at least one volatile solvent chosen from acetone, ethyl acetate, and propyl acetate, said solvent preferably being present in said composition according to a content greater than or equal to 20%, preferably greater than or equal to 30%, by weight relative to the total weight of said composition, in which the proportion of (meth) acrylate monomer is less than or equal to 10% by weight relative to total weight of said composition, and wherein the weight ratio between P1 and P2 is less than or equal to 2.0.La présente invention concerne une composition cosmétique photoréticulable, comprenant dans un milieu physiologiquement acceptable : - au moins un composé photoréticulable P1 uréthane (méth)acrylate comportant une chaîne polyéther, ledit composé présentant une masse moléculaire supérieure ou égale à 1 000 g/mol, - au moins un polymère filmogène P2, - au moins un photoamorceur, et - au moins un solvant volatil choisi parmi l'acétone, l'acétate d'éthyle, et l'acétate de propyle, ledit solvant étant de préférence présent dans ladite composition selon une teneur supérieure ou égale à 20%, préférentiellement supérieure ou égale à 30%, en poids par rapport au poids total de ladite composition, dans laquelle la proportion en monomère (méth)acrylate est inférieure ou égale à 10% en poids par rapport au poids total de ladite composition, et dans laquelle le ratio en poids entre P1 et P2 est inférieur ou égal à 2,0.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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