LEE, HYUN YOUNG,이현영,KIM, YOUNG MIN,김영민,SONG, YEON SUK,송연숙,CHOI, BYULBORA,최별보라,LEE, HYUN YOUNGKR,KIM, YOUNG MINKR,SONG, YEON SUKKR,CHOI, BYULBORAKR
申请号：
KR1020170005308
公开号：
KR1020180015053A
申请日:
2017.01.12
申请国别(地区):
KR
年份:
2018
代理人:
摘要：
The present invention relates to an implant treating apparatus. According to an embodiment of the present invention, an implant treating apparatus may comprise: a chamber part for providing a treatment space for treating an implant； a support part for supporting the implant within the chamber part； a plasma generating part for generating plasma and supplying the generated plasma to the chamber part； an exhaust part for exhausting gas from the chamber part； and a byproduct removing part for removing by-products contained in the gas. According to an embodiment of the present invention, the amount of power required to remove by-products is reduced, thereby increasing the energy efficiency of the implant treating apparatus.본 발명은 임플란트 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 임플란트 처리 장치는, 임플란트를 처리하기 위한 처리 공간을 제공하는 챔버부； 상기 챔버부 내에서 상기 임플란트를 지지하는 지지부； 플라즈마를 발생시켜 상기 챔버부로 공급하는 플라즈마 발생부； 상기 챔버부로부터 가스를 배기하는 배기부； 및 상기 가스에 포함된 부산물을 제거하는 부산물 제거부를 포함할 수 있다.
