包含涂敷于纳米粒子载体表面的T1造影物质的磁共振成像造影剂
- 专利权人:
- 茵温特拉制药公司
- 发明人:
- 申泰铉,千珍宇
- 申请号：
- CN202011048294.7
- 公开号：
- CN112089851A
- 申请日:
- 2014.01.03
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及包含涂敷于纳米粒子载体表面的T1造影物质的磁共振成像(MRI，Magnetic Resonance Imaging)T1造影剂组合物。本发明的磁共振成像T1造影剂组合物以规定厚度以下将顺磁性T1造影剂物质改性于具有规定的直径的纳米粒子载体，来使T1造影剂物质的表面积‑体积比(surface‑to‑volume ratio)大大增加，从而具有优秀的T1磁自旋弛豫效果。本发明提供更准确且鲜明的T1阳性造影(positive contrast)影像，从而可有用地利用于可靠度高的影像诊断。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
