用于遏制光暴露导致的异常皮肤细胞的形成的试剂

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专利权人:

大塚制药株式会社

发明人:

河村光章,筱原茂生,原野史树,青木彰宽,上野绘理

申请号：

CN201180031370.6

公开号：

CN102985093A

申请日:

2011.06.24

申请国别(地区):

CN

年份:

2013

代理人:

摘要：

本发明的目的是提供用于遏制光暴露如紫外线暴露诱导的皮肤细胞形成的试剂。该目的通过使用嘌呤核酸来遏制光暴露导致的异常皮肤细胞形成而实现。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/