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PROCEDE DE TRAITEMENT DE SURFACE DUN DISPOSITIF DE DISTRIBUTION DE PRODUIT FLUIDE
专利权人:
VALOIS SAS
发明人:
SALLAK, ZAKARIA,SALLAK, Zakaria,BUSARDO, DENIS,BUSARDO, Denis,GUERNALEC, FREDERIC,GUERNALEC, Frédéric
申请号:
FRFR2011/051545
公开号:
WO2012/001326A3
申请日:
2011.07.01
申请国别(地区):
WO
年份:
2012
代理人:
摘要:
The invention relates to a method for treating a surface of a device for dispensing a fluid product, said method including a step of modifying, by ion implantation using beams of ions having multiple charge states and multiple energy states, at least one surface to be treated of at least one portion of said device, which is in contact with said fluid product, said modified surface to be treated having anti-adhesive properties for said fluid product, said ions having multiple charge states being selected from among those of helium (He), nitrogen (N), oxygen (O), neon (Ne), argon (AR), krypton (Kr), and xenon (Xe), and the ion implantation being carried out at a depth of 0 to 3 μm.Procédé de traitement de surface dun dispositif de distribution de produit fluide, ledit procédé comprenant létape de modifier par implantation ionique, au moyen de faisceaux dions multichargés et multi-énergies, au moins une surface à traiter dau moins une partie dudit dispositif en contact avec ledit produit fluide, ladite surface à traiter modifiée ayant des propriétés anti-collage pour ledit produit fluide, lesdits ions multichargés étant choisis parmi lhélium (He), lazote (N), loxygène (O), le néon (Ne), largon (Ar), le krypton (Kr), le xénon (Xe), limplantation ionique étant réalisée à une profondeur de 0 à 3 μm.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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