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PROCÉDÉS DE MODIFICATION DE SURFACE POUR ÉCHAFAUDAGES BIOMÉDICAUX
专利权人:
THE ROYAL INSTITUTION FOR THE ADVANCEMENT OF LEARNING/MCGILL UNIVERSITY
发明人:
CERRUTI, Marta,MAHJOUBI, Hesameddin
申请号:
CACA2015/000378
公开号:
WO2015/188261A1
申请日:
2015.06.11
申请国别(地区):
CA
年份:
2015
代理人:
摘要:
Many different substrates are used in tissue engineering as platforms to enhance cell attachment, proliferation and activity, either in-vitro, to multiply specific cell lines, or in- vivo, to induce shorter healing time of injured or missing tissue. However, their hydrophobicity and lack of specific functionalities make them non-ideal for cell adhesion and growth. Treating the surfaces by exposing them to a series of steps including, but not limited to, a diazonium based wet chemistry allows one or more functional groups to be applied to the surface improving cell adhesion and growth. Embodiments of the invention exploiting PDLLA, PMMA and roughed PEEK are demonstrated including both a one-stage and a two- stage process, and at times a vacuum treatment, allowing modification of inner and outer surfaces.De nombreux substrats différents sont utilisés en génie tissulaire comme plates-formes pour améliorer la fixation, la prolifération et l'activité cellulaire, soit in vitro, pour multiplier des lignées cellulaires spécifiques, soit in vivo, pour induire un temps de cicatrisation plus court de tissus lésés ou manquants. Cependant, leur hydrophobie et l'absence de fonctionnalités spécifiques les rendent non-idéaux pour l'adhérence et la croissance de cellules. Le traitement des surfaces par exposition à une série d'étapes comprenant sans caractère limitatif: la chimie humide à base de diazonium permet à un ou plusieurs groupes fonctionnels d'être appliqués à la surface améliorant l'adhérence et la croissance de cellules. Des modes de réalisation de l'invention faisant appel à PDLLA, PMMA et PEEK brut sont démontrés et comprennent un procédé à une étape ou à deux étapes et, parfois, un traitement sous vide, ce qui permet de modifier des surfaces interne et externe.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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