PROBLEM TO BE SOLVED: To provide each of gas treating units with equal gas treatment performance and reduce the problems to be caused by excessive or insufficient gas treatment performance.SOLUTION: In the gas treatment device, the value of voltage V2 to be applied by a high voltage source 15-2 for a downstream gas treating unit GU2 is set to be higher than the value of voltage V1 to be applied by a high voltage source 15-1 for an upstream gas treating unit GU1. The humidification level of a humidifier 17 is controlled so that the power consumption PW1 of the gas treating unit GU1 is equal to the power consumption PW2 of the gas treating unit GU2. Thus, the difference in plasma generation between the gas treating unit GU1 and the gas treating unit GU2 can be significantly reduced, and the gas treatment performance of the gas treatment units GU1 and GU2 can be equalized.COPYRIGHT: (C)2013,JPO&INPIT【課題】各ガス処理ユニットのガス処理能力を平準化し、ガス処理能力の過剰、不足によって生じる問題を緩和する。【解決手段】下流側に位置するガス処理ユニットGU2の高電圧源15-2が印加する電圧V2の値を、上流側に位置するガス処理ユニットGU1の高電圧源15-1が印加する電圧V1の値よりも高くする。ガス処理ユニットGU1の消費電力PW1とガス処理ユニットGU2の消費電力PW2とが等しくなるように加湿装置17の加湿量を制御する。これにより、ガス処理ユニットGU1,GU2のプラズマの発生状況の格差が大幅に解消され、ガス処理ユニットGU1,GU2のガス処理能力が平準化される。【選択図】 図1
