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治療計画装置、ボーラス装置及び粒子線治療装置
专利权人:
三菱電機株式会社
发明人:
大谷 利宏,羽田 英樹
申请号:
JP2016509191
公开号:
JP5976254B1
申请日:
2015.04.09
申请国别(地区):
JP
年份:
2016
代理人:
摘要:
Bolus device that can be repeatedly used, the treatment planning apparatus that creates a configuration data bolus device, and is intended to obtain a particle beam therapy system having a bolus device. Bolus device of the present invention (10) is provided at the tip side of the irradiation target accelerated charged particle beam (16) (the affected part (100T)) particle beam irradiation apparatus for irradiating the (58) by an accelerator (54) a bolus device (10), different irradiation target (affected area (100T)) also can be used, the recess base bolus provided with a (2) (thin bolus (1)), or the basic bolus combines identical shaped parts with at least one (76,89), the basic bolus (a flat-screen bolus (1)) is, as to adjust the range of the charged particle beam (16) passing through the basic bolus (a flat-screen bolus (1)), charged particles beam (16) is formed in the depth direction of the shape of irradiation field irradiated.繰り返し使用することができるボーラス装置、ボーラス装置の構成データを作成する治療計画装置、及びボーラス装置を備えた粒子線治療装置を得ることを目的とする。 本発明のボーラス装置(10)は、加速器(54)により加速された荷電粒子ビーム(16)を照射対象(患部(100T))に照射する粒子線照射装置(58)の先端側に設けられたボーラス装置(10)であって、異なる照射対象(患部(100T))にも使用可能で、凹部(2)を備えた基本ボーラス(薄型ボーラス(1))、または同一形状部品を組み合わせた基本ボーラス(76,89)を少なくとも1つ備え、基本ボーラス(薄型ボーラス(1))は、当該基本ボーラス(薄型ボーラス(1))を通過する荷電粒子ビーム(16)の飛程を調整し、荷電粒子ビーム(16)が照射される照射野の深さ方向の形状を形成する。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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