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沈降シリカ生成物、それらを含む歯磨き剤および方法
专利权人:
ジェイ・エム・ヒューバー・コーポレーション
发明人:
ウォズニアック,マーク・イー,コスティンコ,ジョン・エイ,ガリス,カール・ダブリュー
申请号:
JP2006503477
公开号:
JP4927527B2
申请日:
2004.02.09
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
A precipitated silica comprising porous silica particles, for all pores of 500Å greater than the cumulative surface area (measured by mercury porosimetry) 2 / g of less than 8m, the porous silica particles, the percentage cetyl chloride diameter pyridinium (% CPC) compatibility is about 55 percent. This precipitated silica products, especially since it is well suited for use in dentifrices containing cetylpyridinium chloride, the surface area does not adhere at significant levels in small silica products, antibacterial effect is retained. Production method of the silica products is also provided.多孔質シリカ粒子を含む沈降シリカであって、前記多孔質シリカ粒子は、直径が500Å超の全ての孔に関して、累積表面積が8m2/g未満(水銀圧入法によって測定)であり、百分率塩化セチルピリジニウム(%CPC)適合性が約55%超である。本沈降シリカ生成物は、特に、塩化セチルピリジニウムを含む歯磨き剤における使用によく適合し、この表面積が小さいシリカ生成物に有意義なレベルで付着しないため、抗菌作用が保持される。本シリカ生成物の製造方法も提供される。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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