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Indium Compositions
专利权人:
Rohm and Haas Electronic Materials LLC
发明人:
Szocs, Edit,Schwager, Felix, J.,Gaethke, Thomas,Brese, Nathaniel E.,Toben, Michael P.
申请号:
EP20070123162
公开号:
EP1939935(B1)
申请日:
2007.12.13
申请国别(地区):
欧洲专利局
年份:
2018
代理人:
摘要:
Indium compositions including one or more epihalohydrin copolymers as hydrogen suppressor compounds and methods of electrochemically depositing indium metal from the compositions onto substrates are disclosed. Articles made with the indium compositions are also disclosed.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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