An exemplary method of fitting a bilateral cochlear implant patient using a single sound processor includes a fitting subsystem using a first sound processor associated with a first cochlear implant to selectively fit the first cochlear implant and a second cochlear implant to a cochlear implant patient, automatically segregating fitting data generated during the fitting of the first cochlear implant from fitting data generated during the fitting of the second cochlear implant, and transmitting the fitting data generated during the fitting of the second cochlear implant to a second sound processor associated with the second cochlear implant after the fitting of the second cochlear implant to the cochlear implant patient is completed. Corresponding methods and systems are also described.A titre d'exemple, un procédé selon l'invention de pose d'un implant cochléaire bilatéral sur un patient à l'aide d'un unique processeur de champs sonores comprend un sous-système de pose utilisant un premier processeur de champs sonores associé à un premier implant cochléaire pour la pose de manière sélective du premier implant cochléaire et d'un second implant cochléaire sur un patient ayant besoin d'un implant cochléaire, séparant automatiquement les données de pose générées durant la pose du premier implant cochléaire des données de pose générées durant la pose du second implant cochléaire, et transmettant les données de pose générées durant la pose du second implant cochléaire à un second processeur de champs sonores associé au second implant cochléaire après que la pose du second implant cochléaire sur le patient ayant besoin d'un implant cochléaire soit terminée. L'invention porte également sur des procédés et des systèmes correspondants.
