THE PROVOST, FELLOWS AND SCHOLARS OF THE COLLEGE OF THE HOLY AND UNDIVIDED TRINITY OF QUEEN ELIZABETH NEAR DUBLIN;THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF CALIFORNIA
Disclosed herein are embodiments of methods and systems for attenuating artifacts in single channel cochlear implants. Both high and low frequency artifacts can be attenuating using embodiments of the disclosed methods and systems. In some embodiments, low-pass filters, impedance balancing, and DC artifact estimation can be used, alone or in combination, to attenuate or completely remove artifacts in single channel cochlear implants.L'invention concerne des modes de réalisation de procédés et de systèmes pour atténuer des artefacts dans des implants cochléaires à canal unique. Des artefactsà la fois à haute fréquence et à basse fréquence peuvent être atténués à l'aide des modes de réalisation des procédés et des systèmes selon l'invention. Dans certains modes de réalisation, des filtres passe-bas, un équilibrage d'impédance, et une estimation d'artefacts à courant continu peuvent être utilisés, seuls ou en combinaison, pour atténuer ou éliminer entièrement des artefacts dans des implants cochléaires à canal unique.
