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APPAREIL DE THÉRAPIE PAR PARTICULES ET SON PROCÉDÉ DE COMMANDE
专利权人:
HITACHI, LTD.;株式会社日立製作所
发明人:
DU, Hang,杜航,FUJITAKA, Shinichirou,藤高伸一郎
申请号:
JPJP2019/032478
公开号:
WO2020/070991A1
申请日:
2019.08.20
申请国别(地区):
JP
年份:
2020
代理人:
摘要:
To provide a particle therapy apparatus whereby a particle beam can be efficiently and appropriately radiated, and a method for controlling the same. A particle therapy apparatus 1 for radiating a particle beam from an accelerator is provided with a radiating device 14 for radiating a particle beam to a predetermined position, a gantry for rotatably moving the radiating device on the periphery of a therapy table, and a control device 21 for controlling operation of the radiating device and the gantry, the control device causing a particle beam to be radiated from a predetermined angle range set in advance from the radiating device to a predetermined position while causing the radiating device to be rotatably moved continuously by the gantry.L'invention concerne un appareil de thérapie par particules grâce auquel un faisceau de particules peut être irradié de manière efficace et appropriée, et son procédé de commande. Un appareil de thérapie par particules 1 pour irradier un faisceau de particules à partir d'un accélérateur comporte un dispositif de rayonnement 14 pour irradier un faisceau de particules vers une position prédéterminée, un portique pour déplacer de manière rotative le dispositif de rayonnement sur la périphérie d'une table de traitement, et un dispositif de commande 21 pour commander le fonctionnement du dispositif rayonnant et du portique, le dispositif de commande amenant un faisceau de particules à être émis à partir d'une plage angulaire prédéterminée définie à l'avance depuis le dispositif rayonnant jusqu'à une position prédéterminée tout en amenant le dispositif rayonnant à être déplacé de façon rotative en continu par le portique.効率よく適切に粒子ビームを照射できるようにした粒子線治療装置およびその制御方法を提供すること。 加速器からの粒子ビームを照射する粒子線治療装置1は、粒子ビームを所定位置へ照射する照射装置14と、照射装置を治療台の周囲で回転移動させるガントリと、照射装置およびガントリの動作を制御する制御装置21と、を備え、制御装置は、照射装置をガントリによって連続的に回転移動させながら、照射装置から所定位置に対して、あらかじめ設定された所定の角度範囲から粒子ビームを照射させる。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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