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PARTICLE BEAM TREATMENT APPARATUS AND CONTROL METHOD THEREOF
专利权人:
HITACHI LTD;株式会社日立製作所
发明人:
DU HANG,杜 航,FUJITAKA SHINICHIRO,藤高 伸一郎
申请号:
JP2018187913
公开号:
JP2020054669A
申请日:
2018.10.03
申请国别(地区):
JP
年份:
2020
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a particle beam treatment apparatus capable of irradiating a particle beam efficiently and appropriately, and a control method thereof.SOLUTION: A particle beam treatment apparatus 1 for irradiating a particle beam from an accelerator includes: an irradiation device 14 for irradiating a particle beam onto a predetermined position; a gantry for rotationally moving the irradiation device around a treatment table; and a control device 21 for controlling operations of the irradiation device and the gantry. The control device causes the particle beam to be irradiated in a predetermined angle range that is set beforehand onto the predetermined position from the irradiation device while rotationally moving the irradiation device by the gantry continuously.SELECTED DRAWING: Figure 1COPYRIGHT: (C)2020,JPO&INPIT【課題】効率よく適切に粒子ビームを照射できるようにした粒子線治療装置およびその制御方法を提供すること。【解決手段】加速器からの粒子ビームを照射する粒子線治療装置1は、粒子ビームを所定位置へ照射する照射装置14と、照射装置を治療台の周囲で回転移動させるガントリと、照射装置およびガントリの動作を制御する制御装置21と、を備え、制御装置は、照射装置をガントリによって連続的に回転移動させながら、照射装置から所定位置に対して、あらかじめ設定された所定の角度範囲から粒子ビームを照射させる。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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