Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Betreiben einer wenigstens eine Elementarteilchenquelle (16) und wenigstens ein Zielelement (20) umfassenden Vorrichtung (10), bei welchem in einem Hauptbetriebszustand (54) der Vorrichtung (10) wenigstens ein Strahl (18) aus von der Elementarteilchenquelle (16) bereitgestellten Elementarteilchen einer Oberfläche (22) des Zielelements (20) in einem Brennpunkt (32) oder entlang einer Brennbahn (34) zugeführt wird, wobei zumindest in wenigstens einem von dem Hauptbetriebszustand (54) unterschiedlichen Temperierungszustand (56, 58) der Vorrichtung (10) eine Temperatur eines zumindest den Brennpunkt (32) oder zumindest die Brennbahn (34) umfassenden Bereichs (40) der Oberfläche (22) verändert wird, wobei zum Verändern der Temperatur des Bereichs (40) im Temperierungszustand (56, 58) die zum Bereitstellen der Elementarteilchen im Hauptbetriebszustand (54) verwendete Elementarteilchenquelle (16) verwendet und eine auf die Oberfläche (22) durch das Zuführen des von der Elementarteilchenquelle (16) bereitgestellten Strahls (18) aufgebrachte, gegenüber dem Hauptbetriebsbereich (54) geringere Leistungsdichte eingestellt wird.The method involves supplying a beam of elementary particles on a surface (22) of a target element (20) in a focal point or along a focal track. The temperature of an area of the surface is changed in a tempering state of the device. The area of the surface comprises the focal point or the focal track. The tempering state of the device is different from the main operating state. The elementary particle source is used for changing the temperature of the area in the tempering state. The elementary particle source is used for providing the elementary particles in main operating state. The time period, during which the beam impinges continuously on a point of the area of the surface, is changed relative to the main operating area.
