流体处理装置
- 专利权人:
- 首尔伟傲世有限公司
- 发明人:
- 崔载荣,韩奎源,尹馀镇,郑雄基
- 申请号：
- CN201880042488.0
- 公开号：
- CN110869322A
- 申请日:
- 2018.30.08
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 流体处理装置包括:管道,具有流入口和排出口,并具有供流体移动的内部空间;以及光源部,提供于所述内部空间,并将光提供于所述流体,所述光源部包括至少一个光源单元。所述光源单元具有:基板;以及多个光源,提供于所述基板上而射出所述光,当在纵截面上观察时,彼此相邻的两光源之间的第一距离与从各光源到所述管道的内周面的第二距离的比为1:1.25以下。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
