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Wässrige Lösung zur Oxidation, Entkeimung und Desodorierung sowie Verfahren zur Herstellung dieser Lösung
专利权人:
Cealin Chemische Fabrik GmbH
发明人:
Susanne, Dr. Lehmann
申请号:
DE102008017379
公开号:
DE102008017379B4
申请日:
2008.04.05
申请国别(地区):
DE
年份:
2013
代理人:
摘要:
Wässrige Lösung zur Oxidation, Entkeimung und Desodorierung mit einem Gehalt an Natriumhypochlorit und/oder Magnesiumhypochlorit und/oder Kalziumhypochlorit, welche zusätzlich die Chlorsauerstoffsäuren HClO2und/oder HClO3und/oder HClO4und die Salze dieser Chlorsauerstoffsäuren enthält, dadurch gekennzeichnet, dass sie 15 bis 20 Gew.-% Chlor, 10 Gew.-% einer 20 Gew.-%-igen Lösung von HClO2und HClO4und 0,01–120 g/l (bezogen auf das wasserfreie Produkt) Silikatgemisch enthält, wobei das Silikatgemisch ein anorganisches Silikatgemisch eines Alkali- oder Erdalkalimetalls ist.Aqueous solution for the oxidation, disinfecting and deodorization with a content of sodium hypochlorite and / or magnesium hypochlorite and / or chlorinated lime, which, in addition, the chlorous or chloric acids hclo2 and / or hclo3 and / or hclo4 and the salts of these chlorous or chloric acids, characterized in that it is 15 to 20 w -% chlorine, 10 w -% of a 20 w -% - strength solution of hclo2 and hclo4 and 0,01 – 120 g / l (based on the anhydrous product) silicate mixture contains, wherein the silicate mixture of an inorganic silicate mixture of an alkali - or alkaline-earth metal.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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