Die Erfindung betrifft eine Plasmaeinrichtung (1) mit einer Plasmaquelle (3) zur Erzeugung eines Plasmas. Sie ist gekennzeichnet durch ein Kapillar-Element (19) mit einem Grundkörper (21), der Durchgangskanäle (23) aufweist, wobei das Kapillar-Element (19) im Diffusionspfad des von der Plasmaquelle (3) generierten Plasmas (13) angeordnet ist.The invention relates to a plasma device (1) with a plasma source (3) for generating a plasma. It is characterized by a capillary element (19) with a main body (21) that has through-channels (23), wherein the capillary element (19) is arranged in the diffusion path of the plasma (13) generated by the plasma source (3).Linvention concerne une installation à plasma (1) comprenant une source de plasma (3) pour la création dun plasma. Elle est caractérisée par un élément capillaire (19) doté dun corps de base (21) qui comporte des canaux de passage (23), lélément capillaire (19) étant disposé dans le trajet de diffusion du plasma (13) engendré par la source de plasma (3).
