用无汞基紫外光处理流体的系统
- 专利权人:
- 光学实验室公司(瑞典)
- 发明人:
- 乔纳斯·迪伦
- 申请号：
- CN201780037792.1
- 公开号：
- CN109476514A
- 申请日:
- 2017.20.06
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2019
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明一般涉及用于处理流体的系统,并且具体地涉及配置用于改善细菌减少的处理系统,其中该系统包括基于场发射的UV光源,其适于在紫外线C(UVC)光谱内发光,其波长范围与汞基UV光源所发射的光相比具有更高的上限范围。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
