一种园林景观区植树栽培结构
- 专利权人:
- 重庆华泽园林景观设计有限公司
- 发明人:
- 张娜,吴琦,王程民
- 申请号：
- CN201921781384.X
- 公开号：
- CN211210816U
- 申请日:
- 2019.10.22
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 本实用新型提出一种园林景观区植树栽培结构，包括栽种坑和位于栽种坑内部的栽培植物，栽培植物与栽种坑之间填充有舒散素土；栽种坑坑道壁面材料由从下到上依次铺设的夯实素土层、理石层、混泥土层、细砂层和地表的黑石板组成，黑石板与栽培植物之间的舒散素土上表从内到外分别铺设有黑石条和钢条，钢条下方的舒散素土上还铺设有对应的鹅卵石砌体。本实用新型不但外观美观、素土夯实较为舒散不挤压植物生长，同时土坑不采用传统的整个素土坑或者混泥土坑，采用分层次的坑道栽种，透气、透水，适合栽种移种植物，栽种后，植物周围地表的黑石板材料等衬托出景观植物的特色。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
