一种新的青霉素钠化合物
- 专利权人:
- 石药集团中诺药业(石家庄)有限公司
- 发明人:
- 马慧丽,高志峰,康辉,王晨光
- 申请号：
- CN201610701492.6
- 公开号：
- CN106349255A
- 申请日:
- 2016.08.23
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及一种新的青霉素钠化合物及其制备方法，属于医药技术领域。所述新的青霉素钠化合物，使用Cu‑Ka射线测量得到的X‑射线粉末衍射图谱中在2θ为10.99±0.1°、16.88±0.1°、20.02±0.1°等处显示特征峰，其差示扫描量热图谱在165℃‑168℃有一个特征吸热峰。本发明所制备得到的新的青霉素钠化合物流动性好，更能满足药物制剂学的要求，更适合制备各种药物制剂。由本发明所述的新的青霉素钠化合物制备得到的粉针剂稳定性好，且配成注射液后能稳定24小时以上，大大延长了放置时间，从而提高了用药安全性和有效性，避免不良反应的发生率。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
