用于在植入物上制造抗感染覆层的方法
- 专利权人:
- DOT有限公司
- 发明人:
- H-G·诺伊曼,C·普林茨
- 申请号：
- CN201080003993.8
- 公开号：
- CN102271721B
- 申请日:
- 2010.01.04
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2014
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及一种用于在含钛植入物或由钛制成的植入物上制造抗感染覆层的方法。其目的在于，提出一种覆层方法，通过该覆层方法实现，对由钛制成的植入物或含钛植入物将通过II型阳极氧化获得的机械特性的优化与抗感染特性的优化相结合。根据本发明，将植入物在碱性溶液中阳极氧化，随后将该表面上电沉积具有抗感染特性的金属，在此之后固化含金属的氧化层。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
