您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

Composition for covering and protecting scars
专利权人:
シニック ゲーエムベーハー
发明人:
シュミット ユエルク,シュペルサクソ アンドレアス
申请号:
JP2017554076
公开号:
JP2018514273A
申请日:
2016.04.14
申请国别(地区):
JP
年份:
2018
代理人:
摘要:
The subject of the present invention is a composition comprising (a) at least one film-forming polymer that does not contain silicon, (b) at least one organic UV filter, and (c) at least one organic solvent. The composition is liquid at 20 ° C., component (a) and component (b) are dissolved in solvent (c), and the total amount of organic UV filter (b) to film-forming polymer (a) The ratio is less than 6.5. The present invention also relates to therapeutic compositions, uses of the compositions, devices and methods. [Selection figure] None本発明の主題は、(a)ケイ素を含有しない少なくとも1種の膜形成ポリマーと、(b)少なくとも1種の有機UVフィルタと、(c)少なくとも1種の有機溶媒とを含有する組成物であり、前記組成物は20℃において液体であり、成分(a)および成分(b)は溶媒(c)中に溶解されており、かつ膜形成ポリマー(a)に対する有機UVフィルタ(b)の総量の比率は、6.5未満である。本発明はまた、治療用組成物、前記組成物の使用、装置および方法に関する。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充