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用于掩膜地蚀刻出一种刺穿元件的方法
- 专利权人:
- 霍夫曼-拉罗奇有限公司
- 发明人:
- M.齐普费尔,A.洛佩斯姆拉斯
- 申请号：
- CN201280046413.2
- 公开号：
- CN103813750B
- 申请日:
- 2012.09.19
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2016
- 代理人:
- 摘要：
- 本申请涉及一种用于掩膜蚀刻出刺穿元件（14）的方法，所述刺穿元件具有：纵长延伸的杆部（16）；在远端伸出的尖端（18）；近端的保持件（20）；以及沿着所述杆部（16）一直伸展到所述尖端（18）的区域中的、在侧面敞开的、用于体液的收集槽（22）。为此，将双面的蚀刻掩膜（10）施加到基体（12）的两个侧面上，并且在蚀刻剂的作用下作为成形蚀刻件地形成所述刺穿元件（14），其中给所述蚀刻掩膜（10）的槽侧面（28）配备了用于单面地蚀出所述收集槽（22）的槽蚀刻缝隙（38）。在此建议，所述槽蚀刻缝隙（38）的、远端的和/或近端的端部区段（40、60）构造为朝向缝隙端部变细的结构。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
