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Mask treatment agent and method for suppressing inhalation of harmful substances
专利权人:
フマキラー株式会社;FUMAKILLA LTD
发明人:
佐藤 隆,SATO TAKASHI
申请号:
JP2018172131
公开号:
JP2020045582A
申请日:
2018.09.14
申请国别(地区):
JP
年份:
2020
代理人:
摘要:
A mask treatment agent and a harmful substance that can significantly reduce the amount of harmful substances in the air when the mask is worn by forming a barrier in a gap between the periphery of the mask and the face. A method for controlling inhalation is provided. A barrier that suppresses inhalation of harmful substances in the air from a gap between a peripheral portion (100a) of the mask (100) and the face by treating the mask (100) mounted on a human face with a mask processing agent. It contains an inhalation inhibitor formed in the gap between the peripheral portion 100a of the mask and the face. [Selection diagram] FIG.【課題】マスクの周縁部と顔との隙間にバリアを形成することで、マスクを装着したときに空気中の有害物質を吸入する量を大幅に減少させることができるマスク処理剤及び有害物質の吸入抑制方法を提供する。【解決手段】人間の顔に装着されるマスク100をマスク処理剤によって処理することで、マスク100の周縁部100aと顔との隙間から空気中の有害物質が吸入されるのを抑制するバリアをマスクの周縁部100aと顔との隙間に形成する吸入抑制剤を含んでいる。【選択図】図3
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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