CHOI, IL KYOUNG,최일경,JUNG, HYO KYOUNG,정효경,SONG JONG BEOP,송종법
申请号：
KR1020180007744
公开号：
KR1020190089361A
申请日:
2018.01.22
申请国别(地区):
KR
年份:
2019
代理人:
摘要：
The present invention relates to a method for processing a surface of a dental artificial tooth implant, which processes a surface through plasma electrolytic oxidation to provide a dental artificial tooth implant having an excellent binding structure with a ceramic material. According to the present invention, the method comprises: an electrolyte preparation step of preparing an electrolyte including potassium hydroxide (KOH), potassium phosphate (K_3PO_4), and distilled water (H_2O)； a surface treatment metal preparation step of preparing titanium, titanium alloy, or stainless steel for surface treatment of the dental artificial tooth implant； and a plasma electrolytic oxidation step of immersing the titanium, the titanium alloy, or the stainless steel in the electrolyte, and connecting the titanium, the titanium alloy, or the stainless steel with a plasma electrolytic oxidation apparatus to apply a current density of 300 mA/cm^2.본 발명은 플라즈마 전해 산화를 통해 표면 처리함으로써 도재와의 결합강도가 우수한 치과용 인공치아 보철물을 얻을 수 있는 치과용 인공치아 보철물의 표면처리 방법에 관한 것으로서, 수산화칼륨(KOH), 인산칼륨(K3PO4) 및 증류수(H20)로 조성된 전해액을 준비하는 전해액 준비 단계； 표면처리를 위한 인공치아 보철물용 티타늄 또는 티타늄 합금 및 스테인리스 스틸을 각각 준비하는 표면처리용 금속 준비 단계； 및 상기 전해액에 티타늄 또는 티타늄 합금 및 스테인리스 스틸을 각각 담지하고 플라즈마 전해 산화 장치에 연결하여 300mA/cm2의 전류밀도를 인가하는 플라즈마 전해 산화 단계；를 포함한다.
