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PANSEMENTS DE NÉO-ÉPITHÉLIALISATION À MOTIFS, SYSTÈMES ET MÉTHODES
专利权人:
KCI Licensing; Inc.
发明人:
申请号:
EP11710611.2
公开号:
EP2547301A1
申请日:
2011.03.11
申请国别(地区):
EP
年份:
2013
代理人:
摘要:
Systems, methods, and apparatuses are presented that involve forming patterns on neo-epithelium that allow increased functionality and may more nearly resemble the original epithelium. In one instance, a patterned neo-epithelium dressing (100, 200) for treating a tissue site having granulation tissue includes an interface member (140, 240) for placing proximate the granulation tissue and a plurality of three-dimensional features (146, 246, 346) formed on a second, patient-facing side (144, 244) of the interface member (140, 240). Other systems, methods, and apparatuses are disclosed.L'invention concerne des systèmes, des méthodes et des appareils impliquant la formation de motifs sur le néo-épithélium qui permettent une augmentation de fonctionnalité et de ressembler le plus à l'épithélium d'origine. Dans un exemple, un pansement de néo-épithélium à motifs (100, 200) pour traiter un site tissulaire présentant un tissu de granulation comprend un élément d'interface (140, 240) pour placer le tissu de granulation à proximité et une pluralité de caractéristiques tridimensionnelles (146, 246, 346) formées sur un second côté de l'élément d'interface (140, 240) opposé au patient (144, 244). L'invention concerne également d'autres systèmes, méthodes et appareils.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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