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真空足浴盆
专利权人:
孙士庆
发明人:
张嘉宏
申请号:
CN201220149198.6
公开号:
CN202699566U
申请日:
2012.04.11
申请国别(地区):
CN
年份:
2013
代理人:
摘要:
真空足浴盆属于卫生保健用品技术领域。配有内盆体、外盆体、中药盒体、面盖、支撑块、脚部穴位按摩头和按摩滚轮,进行足浴时普通的浴盆都是单层的,不保温,水温散热快,尤其在冬天散热更快,足浴效果不好,由于本实用新型的内盆体,外盆体之间和面盖的中间有起到保温功能的真空室,在进行足浴保健时能起到保温的作用,防止水温降低过快、节能,因此能更好的进行足浴保健。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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