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用于PSMA靶向的成像和放射疗法的金属/放射性金属标记的PSMA抑制物
专利权人:
约翰霍普金斯大学
发明人:
S·雷,M·G·庞珀,托马斯·J·米德,罗尼·C·米斯,陈颖,杨星,马修·罗茨
申请号:
CN202010106023.6
公开号:
CN111285918A
申请日:
2015.06.05
申请国别(地区):
CN
年份:
2020
代理人:
摘要:
本申请涉及用于PSMA靶向的成像和放射疗法的金属/放射性金属标记的PSMA抑制物。公开了用于PSMA特异性T1‑加权MR成像的低分子量基于钆(Gd)的MR造影剂。基于(Gd)‑的MR造影剂显示出对PSMA的高结合亲和力,并且在PSMA+细胞上表现出特异性T1对比增强。PSMA靶向的基于Gd的MR造影剂可用于体内PSMA靶向成像。还提供了86Y‑标记的PSMA结合脲,其中PSMA结合脲也适合与其它放射疗法一起使用。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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