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ホスホリルコリン類似構造を有する化合物および化粧料
专利权人:
日油株式会社
发明人:
櫻井 俊輔,牧 俊央,福井 洋樹
申请号:
JP2011131202
公开号:
JP5782846B2
申请日:
2011.06.13
申请国别(地区):
JP
年份:
2015
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a novel compound having a phosphorylcholine-like group in the molecule, and having good water solubility together with good stability and expected to express excellent surface activity, and a cosmetic containing the compound and excellent in sense of use.SOLUTION: The compound includes a phosphorylcholine-like structure expressed by formula (1). The cosmetic contains the compound and a cosmetic material and is useful for dermal and hair cosmetics (wherein R1 and R2 represent each an 8-24C hydrocarbon group n represents 1-4 A represents OC2H4 group, OC3H6 group, OC4H8 group or a group in which two kinds of them are present together when A is one kind, m represents 1-10, when A is two kinds, m represents 4-10 in average).COPYRIGHT: (C)2013,JPO&INPIT【課題】良好な水溶性と安全性を併せ持ち、且つ優れた界面活性能を発揮することが期待される、ホスホリルコリン類似基を分子内に持つ新規な化合物および当該化合物を含有する使用感に優れた化粧料を提供すること。【解決手段】本発明の化合物は、式(1)で表されるホスホリルコリン類似構造を有する。また、本発明の化粧料は、本発明の化合物と化粧料材料とを含み、皮膚用および毛髪用化粧品として有用である。【化1】(R1、R2:C8~24の炭化水素基、n:1~4、A:OC2H4基、OC3H6基、OC4H8基又は、これら2種が混在した基、Aが1種の場合、mは1~10、Aが2種の場合、mは平均値で4~10。)【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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