in a flat flexible support part having a high voltage supply electrode array for a dielectrically impeded plasma treatment of a surface to be treated, wherein the electrode array has at least one flat electrode (3) and an area of a support for the dielectric layer (2) presenting the surface to be treated composed of a flexible flat material which protects at least one electrode (3) electrically from the surface to be treated such that only a dielectrically impeded current flow is possible between the at least one electrode (3) and the surface to be treated, when in a gas compartment between the electrode array and the surface to be treated a plasma field results from the high voltage of the electrode (3), it is reached easy handling and increased safety by the fact that the support part has a high voltage stage (14) for producing a high voltage whose output is connected with the least one electrode (3) by a junction piece (17, 17 ') on the support piece.em uma peça de suporte flexível plana com uma disposição de eletrodos suprível com uma alta tensão para um tratamento de plasma dieletricamente impedido de uma superfície a ser tratada, em que a disposição de eletrodos apresenta ao menos um eletrodo (3) plano e uma área de apoio para a camada de dielétrico (2) apresentando a superfície a ser tratada composta de um material flexível plano, que protege o ao menos um eletrodo (3) eletricamente da superfície a ser tratada de tal maneira que apenas um fluxo de corrente dieletricamente impedido é possível entre o ao menos um eletrodo (3) e a superfície a ser tratada, quando em um compartimento de gás entre a disposição de eletrodos e a superfície a ser tratada resulta um campo de plasma pela alta tensão do eletrodo (3), se alcança uma fácil manipulação e maior segurança pelo fato de que a peça de suporte apresenta um estágio de alta tensão (14) para produção de uma alta tensão, cuja saída está unida com ao menos um eletrodo (3) por uma peça de união (17, 17') na peça de su
