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기질 농도의 연속 측정 방법
专利权人:
发明人:
가츠키 고지,츠카다 마사시
申请号:
KR1020117023283
公开号:
KR1012947120000B1
申请日:
2010.03.15
申请国别(地区):
KR
年份:
2013
代理人:
摘要:
Analysis equipment is provided, which is capable of fulfilling a demand for miniaturization and ensuring high sensitivity, and which can be produced easily. The present invention relates to a method of continuously measuring a substrate concentration based on a response when a voltage is applied to a sensor. The present invention includes a response voltage application step of applying a response voltage E2 at which a response attributed to a substrate is obtained and a non-response voltage application step of applying a non-response voltage E1 at which the response attributed to the substrate is not obtained or is not substantially obtained. Preferably, the response voltage application step and the non-response voltage application step are repeated alternately.소형화 및 고감도 보장에 대한 요구를 충족할 수 있고, 쉽게 생산가능한 분석장치를 제공한다. 본 발명은 전압이 센서에 인가될 때의 응답에 의거하여 기질 농도를 연속 측정하는 방법에 관한 것이다. 본 발명은 기질에 기인하는 응답이 얻어지는 응답전압(E2)을 인가하는 응답전압 인가 단계, 및 상기 기질에 기인하는 응답이 얻어지지 않거나 실질적으로 얻어지지 않는 비응답전압(E1)을 인가하는 비응답전압 인가 단계를 포함한다. 바람직하게는, 상기 응답전압 인가 단계 및 비응답전압 인가 단계는 교대로 반복된다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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