Photopolymerizable and photocleavable resins and low shrink and low stress composite compositions

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专利权人:

Paul D Hammesfahr;Xiaoming D Jin

发明人:

Xiaoming D Jin,Paul D Hammesfahr

申请号：

US12584859

公开号：

US09169332B2

申请日:

2009.09.14

申请国别(地区):

US

年份:

2015

代理人:

摘要：

A photopolymerizable and photocleavable (P&P) resin monomer is derived from a reactive photoresponsible moiety via various linkages to form photopolymerizable monomers and/or oligomers.

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/