Disclosed are a colloid mask with a topical carrier and the manufacturing method thereof, wherein the colloidal mask contains a colloid layer and a carrier layer, wherein the first surface of the colloid layer is used for being attached to the users face to make the liquid contained therein come into contact with the skin of the face, the carrier layer is attached to and bonded to at least one local portion of the second surface of the colloid layer, and there is still a partial area maintained on the second surface of the colloid layer not covered by the colloid layer.Linvention concerne un masque de colloïde ayant un support topique et son procédé de fabrication, le masque colloïdal contenant une couche de colloïde et une couche de support, la première surface de la couche de colloïde étant utilisée pour être fixée sur le visage de lutilisateur pour amener le liquide contenu à lintérieur de cette dernière à entrer en contact avec la peau du visage, la couche de support étant fixée et liée à au moins une partie locale de la seconde surface de la couche de colloïde, et il y a encore une zone partielle maintenue sur la seconde surface de la couche de colloïde non recouverte par la couche de colloïde.
