一种旱地大豆全膜双垄沟侧播结构
- 专利权人:
- 发明人:
- 张彩霞,谯显明,李丽萍,郭烨,李兴虎,金艳红,高荣霞,徐丽娜,谯永刚
- 申请号：
- CN202222098274.1
- 公开号：
- CN218456921U
- 申请日:
- 2022.08.10
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2023
- 代理人:
- 摘要：
- 本实用新型公开的属于大豆全膜双垄沟侧播技术领域，具体为一种旱地大豆全膜双垄沟侧播结构,包括大垄，两个所述大垄之间设置有小垄，所述大垄与小垄之间形成有垄沟，所述小垄的左右两侧均开设有播种孔，所述大垄、小垄和垄沟之间覆盖有薄膜，所述薄膜位于垄沟上侧设置有填土，所述填土的侧壁上开设有卡槽，所述卡槽的内部设置有导流半管，首先通过卡槽的设置可以方便固定导流半管放置的位置，这样可以达到固定安装的效果，这样在雨量过大的情况下可以使水顺着导流半管流出，从而减小垄沟间的积水量，避免造成水量过多而影响大豆生长，保持良好的生成环境，降低对大豆出苗影响。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
